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温湿度调节装置在基板曝光前，能有效维持其表面温度的均一性。经过此设备处理后的空气，温度控制精度可达目标值±0.01℃，充分满足制程环境对温控的要求。

精密恒温恒湿机在基板曝光前，能有效维持其表面温度的均一性。经过此设备处理后的空气，温度控制精度可达目标值±0.01℃，充分满足制程环境对温控的要求。